“国防七子”突破光刻设备关键技术，ASML温宁克面色大变

导读：被誉为“国防七子”之一的哈尔滨科技大学，最近在 EUV与双工件平台两个领域的研究上，已经取得了突破性的成果，并且已经将一种足以“捅破天”的新技术，摆在了所有人的面前。

“国防七子”突破光刻设备关键技术，ASML温宁克面色大变

“国防七子”在光刻机的关键技术上取得了重大进展，美国 ASML公司的温宁克先生为之变色

从华为发布5 G技术以来，美国便一直在提防着中国企业，再到后来的“鸿蒙”、“麒麟”，以及与美企的“科技霸权”相抗衡，拜登等人更是对中国企业进行了全面打击，并且对任何可能会对美企带来负面影响的技术，都进行了严惩。

没过多久，一张“实体清单”出炉，上面写着中企业共计639个，凡是和美技术有关的企业，都必须获得批准方能与之进行业务往来，并对其实施了4次联合制裁。

所幸华为在技术上的强势，让拜登的这一系列“阴暗手段”落空，但与此同时，美国也对中国展开了新一轮的制裁，包括4 G、 wifi、高性能计算等。

然而很显然，美国方面“孤立”中国公司的意图并不是一句空话就能达成的，被誉为“国防七子”之一的哈尔滨科技大学，最近在 EUV与双工件平台两个领域的研究上，已经取得了突破性的成果，并且已经将一种足以“捅破天”的新技术，摆在了所有人的面前。

直到四月份，当他们在“电能转化等离子体线路”上取得了重大进展，实现了对7 nm工艺的DPP-EUV光源的研发之后，他们才终于明白，为何当时的 ASML首席执行官温宁克，会突然“变脸”了。

一套 EUV光刻系统，竟然要量产？

“芯片条例”实施后， ASML公司停止了 EUV光刻机的输出，中芯公司花费重金，迟迟没有拿到手，导致14 nm工艺被限制，中国开始打起了自主研发的主意，经过几年时间，总算追上了国产的 EUV工艺。

首先，中国在灯光技术方面取得了长足进步，主要是荷兰 ASML公司使用的高品质、高效率的深紫外光。

其次，中国民营企业北京华卓精科自主研发的极紫外光刻机，将在光刻过程的双工位加工技术方面取得重要进展，从而达到精准操控的目的。

基于以上研究，本课题组已经研制出一套具有自主知识产权的超高精密极光干涉仪，并成功应用于350 nm至28 nm波段的光刻集成研制和性能测试。

中国国防科工所研制的"极紫外光电探测器"，将充分发挥其独特的光电性质，并将其用于其他媒质（例如，金属）的探测，具有广阔的发展空间。这种新型的探测设备在卫星遥感、空中侦查等领域具有很大的优势。

而在“电能转化等离子体线路”技术的帮助下，即便是 EUV光刻机也能造出来，也不是那么好造的。

要知道，一台 EUV光刻机，涉及到的零部件动辄几十万种，就算是 ASML，目前能自行制造出十分之一的零部件，其余九成都需要二十多个国家联合制造，可见一台 EUV光刻机，也需要大量的全球供货，还好，这些核心零部件完全可以自己制造。

ASML之所以能被美国“拿捏”在自己的手上，最主要的原因还是在于它的核心技术来自于美公司，并没有真正意义上的自主开发，所以对于深紫外光刻机的禁运，温宁克先生向来是一脸的轻蔑，对于 EUV的禁运则是保持着沉默。

ASML又换了个说法

到了2023年，好消息一个接着一个，从二月公布的“高精密激光干涉仪”项目，到三月公布的“金燧奖”，再到三月公布了一套全新的、小型化的、短波长激光器项目。

尤其是今年四月，随着DPP-EUV激光器的发布， ASML公司也感受到了来自四面八方的压力，原本温宁克对于中国公司的态度，也发生了翻天覆地的变化，转而将矛头对准了中国公司。

温宁克沉吟了片刻，继续开口道：“中国过于依靠光刻技术，而忽视了自己的制造技术，必然会对其在全球的产业链造成极大的冲击！”单单这一条，就将他们之前所有的付出都白费了，欧美国家果然都不靠谱。

而对于光刻技术，温宁克博士一直都很期待能有一款真正意义上的“国防七子”，您对此有什么看法？