国产光刻机迎来突破！能实现7nm芯片国产化？专家：认清现实

导读：近期，有新消息传出，哈工大仪器学院的胡鹏程教授团队研制出了“高速超精密激光干涉仪”，并获得首届金燧奖”中国光电仪器品牌榜金奖。

作为芯片生产过程中不可或缺的设备，光刻机的重要性不言而喻，为了能买到一台高端光刻机，我国企业也是费尽各种心思，可惜还是遭到老美阻拦，最终不了了之。

其实早在50多年前，我国就已经对光刻机展开了研发工作，但后来为了发展经济，有些企业选择走“贸工技”路线，这才让西方在光刻机、芯片制造等领域筑起了技术壁垒。

如今随着老美不断施压中企，我国也不得不加大对半导体产业的投入，因此这两年才取得阶段性的突破。

近期，有新消息传出，哈工大仪器学院的胡鹏程教授团队研制出了“高速超精密激光干涉仪”，并获得首届金燧奖”中国光电仪器品牌榜金奖。

据了解，该激光干涉仪可用于350nm到28nm工艺光刻机的性能测。要知道光刻机核心部件分别是物镜、光源和双工件台。

其中我国在物镜、双工件台等方面获得重大突破，跟ASML高端光刻机处于同一水平。目前最大的问题就是光源方面，不过如今在国内激光企业共同解决下，光源方面已经不再是问题。

近期中国半导体研究所就发表一篇《加强半导体基础能力建设，点亮半导体自立自强发展的“灯塔”》的文章，讲述我国在半导体领域的布局，以及如何突破的方法，也算是一种发展方向。

不过除了光刻机之外，还有很多设备和材料需要突破，比如芯片架构、蚀刻机、惰性气体、晶体管技术等，所以要想在短时间超越西方国家数十年的技术积累，可不容易。

不过好在我国在关键领域取得巨大突破，虽然没有达到领先水平，但至少有所改善，相信在不久的将来，在众多科研人员的努力下，我国一定能实现7nm、5nm芯片的国产化，缩小与西方企业的差距，打破技术壁垒，这条路没有捷径，只能深耕。