绕过EUV光刻机也能造5nm芯片，新工艺打破行规，ASML万万没想到

导读：最近，日本企业发现了新的工艺，或许不用EUV光刻机也能制造5NM制程的高端芯片。如果这个工艺成功，那么光刻机的历史将会被重写。

对于许多芯片代工企业来说，如果想要制造芯片就绕不过光刻机，而越是低纳米制程的芯片对光刻机的要求也就越高。对于我国来说，因为光刻机的出口限制，所以我们要想生产高端芯片，就要研发光刻机。我国一边在攻克光刻机的同时，也在研究新的替代材料，而光量子芯片的发现让我国成功的领先世界。

当然，除了我国外，世界各国也在进行研究。而最近，日本企业发现了新的工艺，或许不用EUV光刻机也能制造5NM制程的高端芯片。如果这个工艺成功，那么光刻机的历史将会被重写。

依靠光刻机生产芯片的模式已经实行了几十年，形成了完整的半导体产业链。许多技术也是围绕这个产业链而生。当然，在产业链完整的同时，对核心设备光刻机的需求也在急剧增加。而光刻机有限的产能与高端技术出口限制，让许多国家都陷入了半导体领域发展的死胡同。

为了打破这个思维怪圈，日本巨头铠侠公司与佳能和DNP等合作加大了半导体新工艺NIL的研发。目前已经实现了15nm芯片的量产，正在研发低纳米的量产工艺，5NM是其研发的目标。

这项工艺是对传统芯片工艺的颠覆性变革。在传统的流程下，能够生产出5NM的芯片足以证明依靠光刻机的模式是可行的，但是铠侠开发的新工艺如果能够生产高端芯片，那么将会引起半导体领域格局的大洗牌。

外界普遍关注的是如果不用EUV光刻机的话，NIL工艺能否制造出5NM的制程的高端芯片。我们都知道，芯片制造行业随着低纳米制程的不断研发，已逐渐接近物理极限。所以如果能够有新的工艺能够代替现有的制造流程，那么对行业以后的发展来说还是非常有利的。

NIL技术完全可以媲美EUV极紫外光技术。并且能耗更低，相较EUV光刻机造价高，零件多，组装难度大的特点来说，NIL技术至少可以节省40%的设备投资成本，并且耗电量也能减少10%，NIL高精密电路丝毫不输EUV光刻机。而原理来看，纳米压印微影技术和EUV光刻机也有相同之处。所以整体来看，NIL技术有望能够替代EUV光刻机技术。所以我们可以预言NIL技术，或许让我们不用光刻机也能生产高端芯片。

NIL工艺的问世，出乎ASML的意料。要知道EUV光刻机在全球的垄断地位，让ASML成为了半导体领域的最大赢家。而一旦不用EUV光刻机也能生产出高端芯片，ASML的市场地位恐将不保。

NIL技术可能是半导体领域的一个新方向，如果铠侠能够攻克5NM，那么半导体行业将会迎来新的发展契机。而ASML如今的辉煌也将不复存在。对此，你怎么看？