国产光刻机成功突破22纳米，600亿投资见成效，再见了荷兰光刻机

导读：我国在该领域原本起步就晚，想要在一夜之间就赶上西方国家的进度难度非常高，所以我们能做到的就是尽自己所能一步步积累经验，寻求技术突破。幸运的是，我国科研人员的努力付出终于迎来了收获，取得了一项重大突破，未来将会进入一个新的阶段。

随着美国的一系列制裁行动，让“芯片”这个词再次进入人们的视野当中。一直以来我国在这个领域都面临很大的难题，迟迟无法取得巨大突破，手机、电脑等高科技装备所使用的高端芯片都需要依赖进口，这也导致很长一段时间里我国都在该项目上受制于人，那么到什么时候我们才能不被“卡脖子”呢？

中国再次取得突破，进入新阶段

很多人都对于我国芯片发展十分关心，希望能够尽快摆脱依赖，不用再受到其他国家的限制，但是我国在该领域原本起步就晚，想要在一夜之间就赶上西方国家的进度难度非常高，所以我们能做到的就是尽自己所能一步步积累经验，寻求技术突破。幸运的是，我国科研人员的努力付出终于迎来了收获，取得了一项重大突破，未来将会进入一个新的阶段。

此前我国北斗三号芯片的精度已经达到了22纳米，与此同时我国也掌握了22纳米的光刻机技术，从这一方面来说，虽然现阶段我们和国外的技术相比还存在一定的差距，但是整体看来，我国的半导体行业发展欣欣向荣，正在逐步缩小和外国的差距。据了解，今年上半年我国在半导体领域的投资就已经达到了600亿，事实证明这样的投资是很有成效的，照这样的情况发展下去，相信用不了多久，我们的半导体产业将迎来新的技术突破。

【光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩模版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。】

“中国芯”正加速崛起

我们都生活在一个信息化时代，芯片的重要性不言而喻，如果不能掌握芯片制造技术就无法在高科技领域取得真正领先的成就。因此制造芯片的光刻机就尤为重要，造不出光刻机就永远无法摆脱被“卡脖子”的窘境。现阶段世界上能够制造芯片的企业很多，但是能制造光刻机的企业却只有荷兰的ASML公司。该公司掌握了全球独一无二的技术，制造出的芯片精度可以达到5纳米。虽然还不足以和荷兰公司的光刻机相比，但我国此前的光刻机制造水平还处于90纳米的阶段，因此造出了22纳米光刻机之后才让我国如此兴奋，可能用不了多久我们就能与荷兰光刻机说再见了。

如今我国在芯片领域已经有了很多成就，我国的海光、龙芯、飞腾芯片已经有了很大的突破，现阶段已经可以满足我们在武器、导弹、卫星等领域的需求，相信随着我国在半导体领域的不断进步，未来一定能够造出更加先进的“中国芯”，崛起指日可待。