任正非或将拆分光刻机研发壁垒，举全国名校精英之力逐个击破
导读：近日，从7月29日至31日，任正非带队在三天内连访沪苏四大名校，上海交大、复旦大学、东南大学和南京大学。跟随任正非到访有华为战略研究院院长徐文伟，还有2012实验室总裁何庭波。
自美国断供华为芯片以来，华为似乎开始变得异常“低调”。看到这样的华为，不少人也开始了冷嘲热讽，诸如“硬件化差异没有了”“当初投票投对了”“华为向高通‘低头’了”等等。然而此时的华为，其实是在筹划着一盘更大的棋局。
近日，从7月29日至31日，任正非带队在三天内连访沪苏四大名校，上海交大、复旦大学、东南大学和南京大学。跟随任正非到访有华为战略研究院院长徐文伟，还有2012实验室总裁何庭波。任正非一行人在每所大学都与专家进行了座谈，讨论话题涉及校企深层合作，科研与产业的深度融合，培养高科技创新人才，基础研究和技术开发等。
虽然华为方面没有披露这次大学行的具体目的，显然，如今的华为，得以实现通讯领域的重大突破，很大程度上取决于华为内部有着大量的高端科技人才。这一次到访四所名校，不难看出，任正非求贤若渴的心情。
众所周知，现如今我们的生活中充满了各式各样的科技产品，而芯片则是这些高科技产品最为核心的技术。芯片的使用，大到航空航天，小到手机洗衣机。它可以说是无处不在，这就意味着掌握高端芯片的制造技术对于一个民族的发展有着举足轻重的作用，同时它也是衡量一个民族综合实力的重要指标。
一直以来，我们的芯片产业长期都被国外厂商控制。每年光是进口芯片就要消耗2000多亿美元的外汇，对于芯片的需求已然已经超过了石油和大宗商品，这也使得芯片成为了我们第一大进口商品。不单如此，核心技术以及设备受制于人也会直接制约我们信息产业的发展。美国断供华为，就是最好的例子。
想要自主发展芯片，首先制约我们的就是ASML生产的光刻机。其实早在2018年中芯国际就已经向光刻机制造商ASML购买了一台光刻机。本来预计在2019年交货，可由于受到美的阻挠，至今我们连光科技的影子都没有看到。
面对美国的芯片断供，不服输的华为，只能想办法解决芯片的问题。可国内芯片制造厂商，也只有中芯国际的技术在国内最好。但由于种种原因，中芯国际暂时也不能为华为提供帮助。寻求帮助无果，华为也只好自己想办法自主研发光刻机。
可是有着“皇冠上的珍珠”之称的光刻机，它是全球各国所有顶尖工艺的结晶。而且光刻机的一些关键零部件，在全球的生产商也仅仅只有一两家。并且这些公司还与ASML公司有着交叉持股，因此想要自主研发光刻机，难度无异于“登天”。
单就光刻机上的反射镜一项来说，它的精确度要以皮米来计算。（皮米是一个计量单位，一皮米是1米的亿万分之一）。曾经ASML公司的总裁就透露，如果将光刻机上的反射镜看作德国那样大小，那么对于反射镜的精度要求，凹凸误差要在正负一厘米。如此精湛的工艺，用鬼斧神工来形容也一点都不为过。
显然，单凭华为一己之力来研发光刻机是几乎不可能实现的。但这也恰恰可能是，三天之内任正非到访四大名校的一个非常重要的原因。那就是华为或将研发光刻机的各个环节进行拆分并与高校达成合作，然后借助高校内科技人才的力量，再对各环节针对性的逐一攻克，而且能够更快的在芯片领域实现更加尖端技术的突破。
任正非到访可能四大高校还有一个原因，那就是为了减少人才的流失。要知道仅凭高校的学生毕业后，华为再想办法去吸纳人才，就会有一部分的人才选择海外发展，出现人才流失的局面。
前不久，美国曝光出来了顶级芯片专家的名单，引发了国内的一片哗然！因为在这份名单上竟然出现了5个中国人的名字，排名第一的杨培东（美籍），本科院校来自于国内的知名科技大学，现在则是美国加州大学的分校教授。其他排名靠后的还有夏幼南（美籍）、殷亚东（中国籍）、黄暄益（中国籍）、孙玉刚、马晓龙（中国籍）等，他们中大部分此前都是国内的各大知名院校的学生。
自家大学培养出来的“天之骄子，人中龙凤”。拿着公费出国深造之后，没有回国效力，为祖国的事业添砖加瓦。而是选择学业有成后，留在了美国。甚至他们中的一些人还脱离了国籍，成为了美国“断供”华为芯片供应的“得力干将”。
说到散落在海外的科技人才，不得不提到一个人。这个人便是林烨，他在祖国需要导弹的时候，就主动放弃了中国国籍，加入美国波音公司并且帮助美制造出了新一代陆基洲际导弹民兵洲际导弹——民兵洲际导弹。
任正非的到访，或许可以在极大程度上，挽留到一部分高端人才。要知道，至始至终，任正非对于人才的高度重视，一直都广为流传。为留住俄罗斯小伙，华为在俄罗斯小伙的家门口莫斯科建立华为数字研究实验室；得知员工离职是因为工作上的失误，任正非公开道歉，希望离职员工回来；为了让身处异国他乡的国外科技人员有家的感觉，任正非特意在东莞松山湖为他们建造了欧洲小镇。
揽天下英才，克芯片难关。
显然，这一次任正非到访各大名校，或将使得中国芯片制造领域再一次迎来新的转机！